大模型之家讯 9月17日，据金融时报报道，中芯国际正在测试由上海初创企业宇量昇科技研发的首款国产深紫外（DUV）光刻机。该设备采用浸没式技术，与荷兰ASML的工艺相似，标称为28 nm DUV光刻机。技术方案通过多重曝光实现对7 nm工艺节点芯片的生产，初期测试结果显示效果可喜。尽管如此，光刻机何时能够投入量产仍未确定，相关时间表与产能细节需进一步披露。
大模型之家讯 9月17日，据金融时报报道，中芯国际正在测试由上海初创企业宇量昇科技研发的首款国产深紫外（DUV）光刻机。该设备采用浸没式技术，与荷兰ASML的工艺相似，标称为28 nm DUV光刻机。技术方案通过多重曝光实现对7 nm工艺节点芯片的生产，初期测试结果显示效果可喜。尽管如此，光刻机何时能够投入量产仍未确定，相关时间表与产能细节需进一步披露。